Mentorの「Calibre」プラットフォームがTSMCの65nm技術をサポート

米Mentor Graphicsは5月22日、同社の設計プラットフォーム「Calibre Design-to-Silicon」の統合ツールセットが、TSMCの65nmテクノロジー向けに統合されたDFMフローを提供すると発表した。統合DFMソリューションには、リソグラフィフレンドリー設計のための機能「Calibre LFD」や、クリティカルエリアならびに推奨ルールの解析環境「Calibre YieldAnalyzer」、自動レイアウト改良機能「CalibreYieldEnhancer」、DFMを考慮したシリコンモデリング機能「Calibre xRC」などが含まれる。Calibreが提供する幅広いツール群は、既存のツールおよびプラットフォームを拡張することで、ナノテクノロジーで許容できる歩留りを達成するという。