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■Cadence、65nm以下プロセスの歩留まり/ばらつき問題を
　改善する設計プラットフォームを発表
　米Cadence Design Systems社は、設計プラットフォーム「Encounter」の最上位モデル「SoC Encounter GXL」を発表した。65nm以下の微細プロセス設計向けに、歩留まりを考慮したRTL-GDSインプリメンテーションフローを提供する。ばらつきの影響を低減する機能も採用した。
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